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【真空腔體】PVD采用真空腔體的原因

來源：http://hiimart.cn發(fā)布時(shí)間：2019-12-03

真空腔體-PVD是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

真空腔體
真空鍍膜中的濺射利用了輝光放電原理，因?yàn)橛须妶龅拇嬖?，?qū)動(dòng)空氣中的電子和正離子運(yùn)動(dòng)，電子向正極運(yùn)動(dòng)，正離子向陰極運(yùn)動(dòng)。離子與電子在運(yùn)動(dòng)過程中動(dòng)能量不斷增加，與空氣分子碰撞就會(huì)不斷地產(chǎn)生更多的離子與電子，就造成了輝光的持續(xù)放電。
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